多用真空炉 ZDQZKN2-20-400
产品概述
多用真空炉(型号:ZDQZKN2-20-400)是一款集低温真空、可控气氛、快速冷却于一体的通用型多功能热处理设备。该设备在极限真空度6×10⁻²Pa的洁净环境中,实现400℃工作温度及±5℃的优异温度均匀性,配备自动加气系统与高效风冷模块,可在真空、惰性气氛等多种模式下灵活切换。结合20KW高效加热、双区独立控温及15寸大屏智能数据管理系统,为精密合金、电子元件、特种材料提供真空退火、时效、除气、固化及表面处理等多工艺平台,是兼顾灵活性、精度与效率的通用热处理解决方案。
核心参数
技术特点与优势
多功能真空-气氛灵活切换:可在高真空(6×10⁻²Pa)与惰性/还原气氛(如N₂、Ar、H₂)间按需切换,满足材料无氧化处理、气氛还原、表面清洁等多工艺需求。
低温高均匀性控制:双区独立控温技术确保在400℃低温段仍实现±5℃的炉温均匀性,特别适用于对温度敏感性高的电子元件、精密合金及高分子材料的低温热处理。
快速工艺循环能力:集成强制风冷系统,大幅缩短冷却时间,提高设备周转率与生产效率,适合多批次、小批量生产模式。
全流程智能化管理:15寸大屏实现工艺编程、实时监控与数据自动采集,完整记录真空度、温度、气氛压力、冷却速率等曲线,生成可追溯电子报告,确保工艺一致性与质量可控。
紧凑通用型设计:炉膛尺寸适配多种中小型工件,20KW功率兼顾加热效率与能耗经济性,适用于研发中心、实验室及中小规模生产场景。
主要应用领域
本设备是精密制造、电子工业、新材料研发等领域进行多样化低温热处理的通用平台:
精密合金与电子元件
铍铜时效:弹簧片、连接器簧片的真空时效强化。
无氧铜退火:波导、真空器件的无氧化光亮退火。
电子封装:芯片粘接、器件封装的真空除气与固化。
特种材料与表面处理
新能源与高分子材料
电池材料:电极材料、隔膜的真空干燥与热处理。
高分子固化:高性能胶粘剂、密封剂的真空固化。
复合材料:碳纤维预浸料、功能涂层的真空热处理。
通用热处理与研发
多用真空炉、低温真空炉、400℃真空热处理炉、真空气氛一体炉、快速冷却真空炉、双区控温真空炉、智能真空时效炉、通用真空炉、实验室真空炉、真空除气固化炉
生产企业
中达强 —— 依托十年在多用途真空热处理装备领域的持续创新,为全球研发机构及制造企业提供灵活、精密、高效的多功能热处理解决方案。
本设备以其灵活的多模式切换能力、精密的低温均匀性、快速的工艺循环及全面的数据管理,成为满足多材料、多工艺需求的通用型热处理平台,尤其适合研发、中试及多品种小批量生产场景。