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深圳市中达强电炉有限公司
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真空气氛马弗炉
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真空气氛马弗炉

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真空气氛马弗炉 ZDQZKN13-40-1000

产品概述

真空气氛马弗炉(型号:ZDQZKN13-40-1000)是一款集超高真空、智能气氛控制、数字化管理于一体的高端多功能热处理设备。该设备在极限真空度6×10⁻³Pa的超洁净环境中,实现1000℃高温及±5℃的顶尖温度均匀性,配备自动加气系统40KW高效加热15寸智能控制平台,为半导体芯片封装、5G通信器件、特种陶瓷、高导材料等提供超高洁净真空/气氛保护下的钎焊、烧结、退火、扩散处理等精密工艺,是前沿材料研发与高端制造的理想工艺平台。

核心参数

项目参数
型号ZDQZKN13-40-1000
额定功率40KW
最高工作温度1000℃
温度均匀性±5℃(空载)
极限真空度6×10⁻³ Pa
有效炉膛尺寸500(长) × 300(宽) × 300(高) mm
控温方式2区独立智能控温
炉胆材质特种高温合金
气氛系统自动可编程加气系统(惰性/还原性气体)
控制系统15英寸智能触摸屏
数据功能无纸记录、工艺曲线、生产报表
外观颜色米白色

技术特点与优势

  1. 超高真空极限洁净环境:极限真空度达6×10⁻³Pa,为半导体芯片封装、量子器件制备提供近乎绝对的洁净环境,彻底消除氧、水、碳氢化合物污染。

  2. 智能气氛精密切换控制:集成自动加气系统,可在超高真空与高纯保护/反应气氛(如N₂、H₂、Ar及混合气体)间按工艺要求精确切换,实现防氧化、还原、渗碳等多工艺需求。

  3. 双区独立超均匀温场:双区独立控温技术,确保在1000℃高温下炉膛温度均匀性达±5℃,满足大面积基板、多芯片共烧等对温度一致性要求极高的工艺。

  4. 全流程数字化追溯管理:15寸智能大屏集中控制,实时采集并记录真空度、温度曲线、气氛压力、工艺时间等全维度数据,生成可追溯的电子工艺报告,支持质量分析与工艺优化。

  5. 紧凑多功能高效设计:500×300×300mm炉膛尺寸兼顾处理能力与灵活性,40KW功率保障快速升温和高温稳定性,适合研发、中试及小批量生产。

主要应用领域

本设备是第三代半导体、量子技术、5G通信、高端医疗器件等领域的关键工艺装备:

半导体与先进封装

  • 功率模块封装:SiC、GaN功率器件的AMB/DBC活性钎焊与烧结。

  • 射频器件制造:5G/6G滤波器、天线阵列的真空共晶焊与气氛保护烧结。

  • MEMS器件封装:高精度传感器、执行器的真空键合与气密封装。

量子技术与超导应用

  • 超导量子比特:微波谐振腔、量子芯片的低温钎焊封装。

  • 超导薄膜处理:高温超导带材、薄膜的真空热处理与气氛退火。

特种陶瓷与高导材料

  • 电子陶瓷共烧:LTCC/HTCC基板、微波介质陶瓷的真空/气氛烧结。

  • 高导金属处理:无氧铜波导、铍铜簧片的真空退火与时效。

  • 贵金属触点烧结:银合金、金基触点的真空/气氛烧结。

生物医疗与航空航天

  • 医用植入体封装:心脏起搏器、神经刺激器的生物兼容性真空密封焊接。

  • 航天器部件处理:卫星有效载荷、光学器件的超高洁净热处理。


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生产企业

中达强 —— 凭借十年在超高真空及气氛控制热处理装备领域的技术深耕,为全球半导体、量子科技及高端制造行业提供高洁净、高精度、智能化的真空气氛热处理解决方案。


本设备以其超高真空洁净度、智能气氛控制能力、卓越的温度均匀性及全面的数字化管理,成为高端材料制备与器件封装的核心工艺装备,尤其适合对工艺环境洁净度、温度一致性及数据可追溯性有极端要求的尖端制造领域。